HMDS預處理系統(tǒng)通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
一、HMDS真空烤箱,光刻HMDS預處理烘箱技術參數(shù):
電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率:2400W
控溫范圍:室溫+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃
達到真空度:133Pa
容積:90L
工作室尺寸(mm):450*450*450(可選擇)
載物托架:2塊
時間單位:min
二、HMDS真空烤箱,光刻HMDS預處理烘箱特點:
1、 采用醫(yī)用級不銹鋼316L材質(zhì)制造,內(nèi)膽為不銹鋼316L;加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周,內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。 2、 箱門閉合松緊能調(diào)節(jié),整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內(nèi)高真空度。 3、 微電腦智能控溫儀,具有設定,測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,控溫精確,可靠。 4、 智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套進口PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時間。 5、 HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。 6、 整個系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)材料制造,無發(fā)塵材料,適用100 級光刻間凈化環(huán)境。
六甲基二硅胺(HMDS)是黃光區(qū)zui毒的東西,建議使用HMDS真空烘箱,HMDS真空烘箱預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內(nèi)真牢度達到某一高真空度后,開始充人氮氣,充到達到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數(shù)后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入通過氮氣的HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業(yè)過程。
HMDS與硅片反應機理圈:首先加熱到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應,在硅片表而生成硅醚,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進一步反應。
尾氣排放等:多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道。