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清潔烤箱，無(wú)塵烤箱用于IC生產(chǎn)過(guò)程中極為重要的光刻工藝中預(yù)烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅(jiān)膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數(shù)是非常重要的，無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂（PI）烤箱腔內(nèi)的氣體保持相當(dāng)干凈（100級(jí)），良好的溫度均勻性。通過(guò)氮?dú)獯祾呖蓪⒀鯕夂拷档椭?0ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優(yōu)異工藝結(jié)果。
無(wú)塵室烤箱，半導(dǎo)體無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；HMDS無(wú)塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
無(wú)塵室干燥箱，試驗(yàn)用百級(jí)烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
加工半導(dǎo)體用烤箱， SECS / GEM無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后固化、堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；可以使用TCP / IP（使用HSMS標(biāo)準(zhǔn)，SEMI E37）或基于RS-232的協(xié)議與支持GEM的主機(jī)進(jìn)行通信。通常這兩種協(xié)議都受支持。每臺(tái)設(shè)備都可以使用由GEM
晶圓精密循環(huán)烤箱，硅片循環(huán)烘箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結(jié)構(gòu)、材質(zhì)強(qiáng)度、保溫、循環(huán)風(fēng)道等均設(shè)計(jì)精良，且外形美觀、操作方便?？諝庋h(huán)系統(tǒng)為水平式循環(huán)送風(fēng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性，均勻度可達(dá)±1.5％，當(dāng)門(mén)開(kāi)、關(guān)動(dòng)作引起擾動(dòng)時(shí)，可借此送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)迅速回復(fù)操作狀態(tài)溫度值。
潔凈充氮烘箱，無(wú)塵室充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。充氮烤箱可滿足電子電器、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)中凈化干燥。特殊要求溫度可達(dá)350℃-400℃并且可加裝氮?dú)膺M(jìn)出口。
